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合金薄膜电阻 合金膜刻蚀线条局部

合金薄膜电阻 合金膜刻蚀线条局部
离子束溅射镀膜的特点:

埃德万斯提供离子束镀膜技术服务,采用公司自主研发的离子束溅射薄膜沉积系统,镀膜具有以下优势:

(1)材料适用范围广。具有最宽范围材料适用性,包括金属、非金属、合金、化合物和其他任何凝固态固体新材料。即使是高熔点材料也能采用离子束镀膜,对于合金、靶材化合物材料易制成与靶材组分比例相同的薄膜。

(2)薄膜纯度高。由于惰性气体离子和原子的化学性质十分稳定,在离子束溅射沉积过程中属于单纯的物理过程,不会改变溅射与沉积材料的基本性质。

(3)薄膜附着力强。在沉积薄膜之前进行离子束溅射预清洗的首要作用是去掉衬底表面的杂质物粒子,真实的衬底表面原子。离子轰击可使衬底表面的原子活化,提高衬底表面原子的极化率,从而缩短沉积原子与衬底表面原子之间的距离,改善原子的结合能,增强薄膜对衬底的附着强度。

(4)薄膜均匀性高。采用倾斜入射离子束溅射衬底表面时,不仅可彻底清除表面的杂质异物层,而且可以同时抛光表面,改善表面的微粗糙度和提高在其上生长的晶粒的均匀性。IBSD薄膜有多种措施改善薄膜均匀度在Ф50~Ф150 mm范围的薄膜厚度误差可控制在3%~5%之内。
(此内容由www.advancednems.com提供)

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