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双离子束镀膜车间展示

双离子束镀膜车间展示
双离子束溅射辅助沉积镀膜是在单离子束溅射技术的基础上发展起来的,在主溅射源基础上增加辅助离子源。其主要特点是:

(1)在沉积薄膜之前,通过辅源轰击清洗基体表面,可彻底清除基体表面的各种微尘及油脂等杂质,而且离子轰击可使基体材料表面原子活化,有利于沉积晶粒更均匀、孔隙更小的致密薄膜;

(2)镀膜前对基体表面的离子束清洗,以及沉积过程中的离子束辅助溅射功能,可有效提高薄膜与基体之间的附着力,并显著降低薄膜应力;

(3)通过调整离子能量、溅射角、沉积角等工艺参数,可改变薄膜晶粒尺寸、择优取向、成分比例等薄膜生长过程中的微观组织结构,有效灵活地控制薄膜的各项物化性质;

(4)辅源离子束对生长薄膜表层的轰击,增强了沉积原子的表面迁移率,有效提高原子填充密度,减小薄膜空隙度,增强了低温成膜情况下的薄膜致密度,薄膜的光学性能和机械性能也可得到大幅度改善;

(5)可以合成碳化物、氮碳化物和氧化物薄膜,以及高硬度膜、超导薄膜和抗高温氧化薄膜等,合成新型合金薄膜和金属-非金属混合薄膜。

(此内容由www.advancednems.com提供)

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