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离子束镀膜车间展示

离子束镀膜车间展示
离子束溅射镀膜

早期的光学薄膜一般是采用电子束蒸发技术制备的。但是,国内外的研究表明,这种制膜技术自身存在着很多不完善的地方,难以制备出反射率99.99%以上的高质量光学薄膜。然而,经过近四十年的发展,离子束溅射镀膜技术已成为制备高质量光学薄膜的一种最有效的方法,运用这项技术可以很容易地制备出损耗小于40ppm的介质干涉薄膜,其早期主要应用于激光陀螺和高功率激光镜的研制。

离子束溅射沉积光学薄膜最早可追溯到上世纪七十年代,但是早期应用这项技术制备的薄膜质量还不高。到1975年,宽束离子源的出现,使离子束溅射镀膜技术出现了一次重大的突破,并成功地制备出了损耗极低的干涉光学薄膜。

离子束溅射镀膜原理:利用离子源产生的高能离子束轰击置于高真空中的靶材,使其靶材原子溅射出来,并在基底表面重新组合形成薄膜的过程。

离子束溅射镀膜的特点:

埃德万斯提供离子束镀膜技术服务,采用公司自主研发的离子束溅射薄膜沉积系统,镀膜具有以下优势:

(1)材料适用范围广。具有最宽范围材料适用性,包括金属、非金属、合金、化合物和其他任何凝固态固体新材料。即使是高熔点材料也能采用离子束镀膜,对于合金、靶材化合物材料易制成与靶材组分比例相同的薄膜。

(2)薄膜纯度高。由于惰性气体离子和原子的化学性质十分稳定,在离子束溅射沉积过程中属于单纯的物理过程,不会改变溅射与沉积材料的基本性质。

(3)薄膜附着力强。在沉积薄膜之前进行离子束溅射预清洗的首要作用是去掉衬底表面的杂质物粒子,真实的衬底表面原子。离子轰击可使衬底表面的原子活化,提高衬底表面原子的极化率,从而缩短沉积原子与衬底表面原子之间的距离,改善原子的结合能,增强薄膜对衬底的附着强度。

(4)薄膜均匀性高。采用倾斜入射离子束溅射衬底表面时,不仅可彻底清除表面的杂质异物层,而且可以同时抛光表面,改善表面的微粗糙度和提高在其上生长的晶粒的均匀性。IBSD薄膜有多种措施改善薄膜均匀度在Ф50~Ф150 mm范围的薄膜厚度误差可控制在3%~5%之内。
(此内容由www.advancednems.com提供)

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