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离子束抛光车间展示

离子束抛光车间展示
离子束抛光是1965年亚利桑那州立大学一个课题组在一次范德格拉夫加速器预调试验中偶然发现的,当时课题组意外的发现经过高能离子束轰击可以均匀地去除石英片的表面层。实验分析发现,石英表层原子的去除过程与各种材料( Si 和O元素)本身无关,其原因是离子轰击能量比样品材料本身的结合能量和电离能量高得多,石英片表面被一个原子一个原子地溅射掉,因此获得了均匀度极好、物化性能与轰击之前完全相同的光滑石英表面。于是得出结论: 用定向的离子束来轰击石英玻璃表面,可获得精度极高的光学表面,并把这种加工方法叫做离子束抛光。随后,一系列有针对性的实验结果表明,采用中、低能离子束,经长时间抛光加工,可以获得质量更高的表面抛光效果。近几年的研究表明,利用Ar为主工质气体,辅以H2、O2、N2等气体,产生的离子束用来抛光基体表面,通过计算机控制以及精密的在线光学检测,可以实现亚纳米级别的抛光效果。

相较于其他精密光学抛光技术,诸如磁流变抛光、超精密气囊抛光等,离子束抛光技术是一种先进的原子量级抛光技术,是一种非接触式、无应力抛光工艺。
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