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刻蚀机(IBE-100)型 PRODUCTS

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离子束刻蚀机(IBE-100)型

离子束刻蚀机(IBE-100)型

    离子束刻蚀机(IBE-100)型

    离子源类型:考夫曼离子源

    刻蚀材料:金属,非金属,合金,半导体,金属氧化物,氮化物,碳化物,陶瓷,超导等;

1. 离子源口径:Ф100mm;

2. 离子能量可调范围:0~1KeV;

3. 推荐实用离子能量:100eV~650eV; 离子能量稳定度:RMS值≤±2%/h

束流峰值:≥100mA (离子能量≥500Ev) 离子束流稳定度:RMS值≤±2%/h;

4. 有效束径:Фb≥76mm(3英寸)Ф76mm(3英寸)直径范围内的刻蚀均匀性IBEU( RMS)≤±5%;

     5刻蚀速率; 10-500nm/min(根据具体材料与工艺)

6.刻蚀工件台:工件台面直径:Ф150mm;

水冷台面温度:5℃~25℃

自转转速:9RPM;

刻蚀角度范围:90°;

7.刻蚀工作腔体:不锈钢箱式真空室;配装直接插入离子源的水冷15℃的离子源室,

装于门板的刻蚀工件台可旋入或旋出工作室;

8.真空系统主要构成组件、性能要求及主要技术指标:

前级真空泵:VD401直联泵(ULVAC)抽速:≥11L/s;

配装TM301(ULVAC)油雾消除器;

主泵:FF-1200 分子泵抽速:1200L/s;

极限真空:PLim≤8.5×10-5Pa(无冷阱、不烘烤);

工作压强:Pb≤5×10-4Pa;

系统从105Pa抽至5×10-4Pa周期:≤45min;

标准Ar气工作压强:Psop=2×10-2Pa;

9. 工作气体;普通氮气,工艺气路,1-2路

10. 双阴极和双中和灯丝

11. 操作模式:全自动+半自动;关键操作实现互锁,故障自动报警;

12.离子源电源及全自动控制系统

Advanced 离子源电源按独特电源多系统方案设计,其先进性在于电源输出外特性与离子源

动态负载特性具有优良匹  配,使离子源处于高效率、稳定和可靠运行状态;

Ei=500eV, 100 mA束流峰值工作条件下:

离子源功耗:350W(相当于国际同口径离子源功率1/3以下);

离子能量稳定度:RMS值≤±2%/h;

离子束流稳定度:RMS值≤±2%/h;

电源系统总体设计可靠性:97%


★束流检测:法拉第筒在线检测(可选)

★终点检测控制:可选配质谱仪

(此内容由www.advancednems.com提供)

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