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刻蚀机(IBE-200)型 PRODUCTS

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离子束刻蚀机(IBE-200)型

离子束刻蚀机(IBE-200)型

离子束刻蚀机(IBE-200)型

离子源类型;考夫曼离子源
刻蚀材料:金属,非金属,合金,半导体,金属氧化物,氮化物,碳化物,陶瓷,超导等;
1. 离子源口径:Ф200mm;
2. 离子能量可调范围:0-1kev;
3. 推荐实用离子能量:100-650ev; 离子能量稳定度:RMS值≤±2%/h
束流峰值:≥180mA (离子能量≥500Ev) 离子束流稳定度:RMS值≤±2%/h;
4. 有效束径:Фb≥150mm(6英寸)
Ф150mm(6英寸)直径范围内的刻蚀均匀性IBEU( RMS)≤±5%;
5. 刻蚀速率; 10-500nm/min(根据具体材料与工艺)
6.刻蚀工件台:工件台面直径:Ф180mm;
水冷台面温度:5℃~25℃;
自转转速;0~20RPM(可调)
刻蚀角度范围:0°~90°自动调节;
7.刻蚀工作腔体:
不锈钢箱式真空室;配装直接插入离子源的水冷15℃的离子源室,装于门板的刻蚀工件台可旋入或旋出工作室;
8.真空系统主要构成组件、性能要求及主要技术指标:
前级真空泵:VD401直联泵(ULVAC)抽速:≥11L/s;
配装TM301(ULVAC)油雾消除器;
主泵:FF-1200 分子泵抽速:1200L/s;
极限真空:PLim≤8.5×10-5Pa(无冷阱、不烘烤);
工作压强:Pb≤5×10-4Pa;
系统从105Pa抽至5×10-4Pa周期:≤45min;
标准Ar气工作压强:Psop=2×10-2Pa;
9. 工作气体;普通氮气,工艺气路,1-2路
10. 双阴极和双中和灯丝
11. 操作模式:全自动+半自动;关键操作实现互锁,故障自动报警;
12.离子源电源及全自动控制系统
Advanced 离子源电源按独特电源多系统方案设计,其先进性在于电源输出外特性与离子源动态负载特性具有优良匹配,使离子源处于高效率、稳定和可靠运行状态;
在Ei=500eV, 100 mA束流峰值工作条件下:
离子源功耗:≤350W(相当于国际同口径离子源功率1/3以下);
离子能量稳定度:RMS值≤±2%/h;
离子束流稳定度:RMS值≤±2%/h;
电源系统总体设计可靠性:≥97%;
★束流检测:法拉第筒在线检测(可选)
★终点检测控制:可选配质谱仪


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